<!--go-->

“光刻機的定位解析度一般來說，比製程解析度會高一到兩代。”

“我們新科目前採用的晶片製程是0.35微米技術，定位解析度則能夠達到0.25微米水平。”

“按照正常的研發序列，我們接下來五年時間裡會陸續開發出0.18和0.13微米級別的定位解析度技術。”

“受限於我們目前的技術水平，到2004年我們最多可以把定位解析度推進到90奈米。”

送走了林千軍，王中軍在實驗室的閉門小會里露出了一臉愁容。

大家打完了雞血，熱情卻不能直接變成科研成果，而科學技術又從來不以人的意志為轉移。

所以在說到具體問題的時候，該掉頭髮還是要掉頭髮的。

“情況就是這麼個情況，我們現在能夠做到0.25微米已經是為了追趕國際先進水平，付出極大壓力之後的成果了。”

“可是如果要滿足有關單位的需求，我們的奈米光柵必須達到100奈米的解析度。這已經不是亞微米技術，而是微奈米的範疇了。也就是說，我們需要跨越至少五年時間的技術發展，將定位解析度提前推到100奈米。”

王中軍說到這裡不由皺起眉頭，手摸著煙盒卻沒有開啟：“都說說吧，有什麼思路沒有？”

下面實驗室裡的研究員們面面相覷，跟著一起犯起了難。

“繼續採用化學蝕刻法怎麼樣？如同透過多次曝光的技術……”

Loading...

未載入完，嘗試【重新整理】or【退出閱讀模式】or【關閉廣告遮蔽】。

嘗試更換【Firefox瀏覽器】or【Chrome谷歌瀏覽器】開啟多多收藏！

移動流量偶爾打不開，可以切換電信、聯通、Wifi。

收藏網址：www.peakbooks.cc

(＞人＜；)