“呼～”

腦海中緩了一會兒後，林曉便感覺自己的思維重新恢復了清晰。

這一次提高的大腦開發度還不到本來的十分之一，對他本身的負擔並不大，只是稍微有一些頭暈罷了，等了一會兒後，這種眩暈感便逐漸消退了。

此時此刻，他再次抬頭看向周圍的環境，便感到周圍的一切彷彿都在他的把控之中，甚至他能夠將整個房間直接建立成為了一個3D模型，然後放在自己的大腦中，並且甚至能夠直接對這個模型進行改變。

此外，他甚至感覺自己現在能夠輕鬆地對八位數數字進行質數分解。

同時，他感覺自己對於物理的理解似乎也更近了一步。

本來，他因為之前提出了多維場論，而從系統那裡得到了一個【物理大師光環】，這個光環對他的加成還是很高的，這也是為什麼他有自信對光刻機來動手。

而現在他物理學又提升到了5級，這讓他更有信心將這個時間縮短了。

“甚至……EUV光刻機也不是什麼問題，似乎X光刻機，也能行？”

林曉的腦海中忽然浮現出了這個想法。

X光刻機，指的便是用X光作為光源的光刻機。

X光的波長比極紫外光更短，能夠更加容易地去生產先進製程晶片。

並且這種光刻機有一種優點，那就是它的光源是直接照射在晶片底上的。

這種曝光方式便叫做直寫式。

而EUV光刻機的光源中，EUV光源是經過十幾塊鏡片的各種折射，最後透過掩膜版上面的圖案，以投影的方式在晶片上形成晶片的。

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