楊傑在得知黃明超等人研發的極紫外光光刻機對波長在12奈米的光源十分敏感，心中也是詫異了一下。

在前世的時候，艾斯摩爾公司研製的極紫外光光刻機的波長控制在13.5奈米，這主要是因為光刻膠的原因，這主要是因為光刻膠的配方主要是掌握在住友、toK、陶氏等少數幾家公司手裡，配方自然是又他們來決定的。

而黃明超他們配方不一樣，自然對極紫外光光源不同的波長有著不一樣的光化學效應。

之前黃明超他們來做實驗主要是用掃描隧道顯微鏡來觀察光刻膠對光源照射劑量反應後的情況，並不能實時地觀察到這個反應過程，這樣黃明超他們只能是不停靠著試錯的方式來調整配方。

現在有了這個神光光源設施後，透過利用光源光束脈衝性質拍攝一系列的快照，這些快照聚集起來，隨時間的推移，可以形成一個樣品變化的動態影象。

這個就是神光光源設施儀器裝置的時間分辨技術，有了這套技術裝置可以清楚地觀察到光刻膠在光源照射時的各種反應情況，可以讓黃明超他們可以更快地分析判斷光刻膠具體的效能，從而為配方的調整方向有了非常明確的目標，可以大大地縮短研發時間。

現在因為國內的主要的晶圓廠很大一部分都是使用華興半導體材料公司的光刻膠產品，光是光刻膠這一個業務也是給半導體材料公司每年都帶來巨大的利潤，所以也足夠支撐公司在這方面的研發。

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