直到進入新世紀的第二個十年之後，上面也漸漸發現了咱們在晶片製造領域的隱患。

然後才又給光機所下了新的任務指令。

然後光機所才開始研發起光刻機的鏡頭研發，終於在17年，在極紫外光EUV的光源這一塊取得了重大突破。

然後在去年，又在45-22奈米光刻機的曝光系統方面，再度取得重大突破。

正是在這種勢如破竹連續突破技術難關的情況下，日本人又動了小心思。

名義上是合作，其實也是想賤賣技術，然後打壓國產研發的意思。

另外也是包含一種破罐破摔的想法，如果人家看不上他們的技術，那他們乾脆就無償轉讓了。

乾脆一次性大大方方的出售，然後多換點碳奈米管晶片回去，還有就是一些軍用級別的晶片回去。

因為軍用機別的晶片始終是他們的遺憾呢！

不為別的，軍用機別晶片雖然對精度要求不高，但對抗干擾能力的要求，那是極高的。

所以和普通民用晶片比起來，那完全是一個不同的領域……

所以最近春城的科研系統，可以說是一派繁榮。

原本上面給的經費有點緊緊巴巴，可是突然來了一夥日本人，可是出手大方。

要求合作，還轉讓了一些技術給他們，讓他們在14奈米光源系統這一塊的研發，有了重大突破。

要知道以前，光是靠他們自己，怎麼也得幾年的時間才能突破的。

可是現在這個過程，最起碼縮短了一倍，甚至兩倍…

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