光刻機又名：掩模對準曝光機，常用的光刻機是掩膜對準光刻，是製造大規模積體電路的核心裝備，每顆晶片誕生之初，都要經過光刻技術鍛造，簡單地說，光刻機就是把工程師的設計“刻印”在基底材料-矽片上，在2—3平方釐米的方寸之地整合數十億電晶體。

光刻機“刻印”處理過的矽片再經過蝕刻機加工，透過化學反應，物理撞擊作用移除廢棄“矽片”上的廢棄部分，再經歷某些封裝工藝，神奇矽片材料變廢為寶，變成價值高昂的-電子晶片。

因為周興的關係5奈米級蝕刻極量產可期，光刻機成為眾人心中的重中之重，如果光刻機再有所突破，那麼晶片領域會和高鐵領域一樣，突破西方國家封堵完成彎道超車。

“不過什麼？有話快說，別賣關子。”嚴教授瞪著周興，催促地問：

“光刻機我是有研究過，不過，暫時沒別的想法。”周興看了嚴教授一眼，淡淡地說：

聞言，在場眾人面色一鬆，露出意料之中的神色，臉上又帶了一絲遺憾，神色複雜。

5奈米級蝕刻機的量產工藝被周興攻克，如果連光刻機也被周興突破了，那他的研發能力未免也太嚇人了。

光刻機可比蝕刻機複雜多了，晶片的核心是光刻機，光刻機的核心是鏡頭，目前世界主流的光刻機還是深紫外侵入式光刻機，這個技術的極限是14奈米級以上，10奈米以下的光刻機則要用到極紫外光刻（EUV）技術，這項技術即使國外巨頭都尚處於實驗室向商業化發展的階段，鴻溝般的巨大差距不是輕易就能跨越的。

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