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滬市，張江技術園區。

中微半導體總部的四周，佈置了密密麻麻的電網和監控器，安保力量更是配備齊全。

一座不起眼的工廠裡，沙領導、鄭韓等一眾領導，在陸飛的帶領下，來到車間外。

隔著玻璃窗，就能看到一個巨型公交車大小的光刻機，身穿防塵服的工作人員正在操控這樣的龐然大物，一個工作臺完成掃描曝光的同時，另一個工作臺也進行對準、調焦、下片等行動。

“因為晶片製造的過程中，並不是一次曝光就可以完成，而是需要經歷多次曝光。”

“在曝光完一個區域之後，放置矽晶圓的曝光臺就必須快速進行移動，接著曝光下一個需要曝光的區域，想要在這麼多次快速移動中實現奈米級別的對準，雙工作臺就必須做到精度高而且操作時間短，這項技術本來只有ASML有，但現在已經被我們突破了。”

陸飛滔滔不絕，如數家珍。

領導們一言不發，目不轉睛地盯著執行中的光刻機，雖然不是第一次見到光刻機，但一想到這是第一臺國產的DUV浸潤式光刻機，都壓不住激動的心情，儘可能地往前靠，想湊得更一些，看得更清楚一些。

“了不起啊，小陸，你們了不起啊。”

沙領導滿意道：“我記得是7年前還是8年前，也是在這裡，你讓我看的是65nm乾式光刻機，還向我保證絕對能搞出屬於我們自己的國產的浸潤式光刻機，我本來以為要花10年甚至更長的時間，沒想到你給了我們一個大大的驚喜啊！這麼快讓你們搞出來了！”

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