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高凡這話，要是讓畢主任聽見，只怕要指著他的鼻子大罵他信口開河了。

什麼，光刻膠沒有技術門檻，你說的是貼春聯的漿糊吧？

光刻技術，被稱為人類工業成果的集大成者。光刻機的製造固然要涉及到無數尖端製造工藝，光刻膠的研製與合成，同樣需要化學與物理學的完美整合。

一種優秀的光刻膠，需要考慮到靈敏度、對比度、抗刻蝕性、分辨能力、曝光寬容度、工藝寬容度、熱流動性、膨脹效應、黏度、保證期限等等，研究人員需要從理論上設計出符合條件的化合物，想辦法進行合成，並在實踐中不斷最佳化配方，最後才有一個很小的機率能夠開發出一種有效的光刻膠。

有時候，開發出來的光刻膠在某些方面表現出色，而另外一些方面仍存在問題，這時候還需要與積體電路製造商協調，調整光刻工藝以規避光刻膠中存在的缺陷。

總之，就是一句話，認為光刻膠沒有技術門檻，是徹頭徹尾的外行言論。

那麼，高凡是外行嗎？

顯然不是。

他之所以敢說光刻膠沒有太高的門檻，是因為他通曉20世紀80年代至21世紀前20年全球光刻膠技術的發展脈絡，目前美國、日本、德國、英國的光刻膠廠商正在苦苦探索的技術訣竅，在他腦子裡已經有了清晰的答案。

給高凡一張EUV光刻機的製造圖紙，他沒辦法把裝置造出來。因為製造這臺裝置，需要使用許多種精密機床，而這些機床甚至連西方國家也還沒研製出來。

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