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28奈米光刻機。

28奈米已經是目前炎國國內光刻機的頂尖水平。

在目前全球光刻機市場中，ASML、佳能以及尼康是最大的三家供應商，他們佔據了全球99%的市場份額。

佳能和尼康主要生產22奈米的“低端”DUV光刻機，而ASML大部分產品都是更高階的EUV光刻機。

DUV和EUV實際區別就是光源，DUV指“深紫外線”，EUV指“極深紫外線”，聽名字就能感覺到EUV技術更加牛逼。

確實也是如此，DUV光刻機的光源波長為193奈米，EUV光源波長為13.5奈米，而且EUV光源並非地球上天然存在的光線，需要特定的技術和裝置才能夠製造出來的。

在光源波長越短，折射率越大，能量越大的原理下，光源波長為193奈米的DUV光源一般只能實現25納米制程，I憑藉工作臺模式做到了10奈米，但後續再也無法突破10奈米。

太積電也強行用DUV光源生產過第一代7奈米晶片，但是是透過DUV多重曝光實現的，不但工藝複雜，良品率低，其實上所謂的7奈米還有很大水分，太積電也是在第二代7奈米晶片的時候就全面換成EUV光源了。

也就是說，DUV光源做做28奈米、56奈米的製程還行，但涉及7奈米、5奈米，DUV幾乎沒戲，只能靠EUV技術。

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