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楊森平他們在國產光刻機上的研究，是從最初的毫米工藝向微米發展，在到如今的奈米級。

但卻始終被海外的技術遠遠甩在後面。

現在華科院哪怕取得了重大技術突破，也僅是才達到28奈米水平。

距離海外的5奈米晶片相差甚遠。

畢竟晶片的製造規格每提升一個小層次，研發難度都是呈數倍增加，如果依舊按照原來的方式攻克技術，恐怕等國產光刻機能生產14奈米或者7奈米晶片的時候,人家已經實現3奈米工藝了。

依舊會落後於人。

所以徐磊才會要求楊森平把之前的研發進度徹底推翻。

直接從矽基晶片的物理極限1奈米開始。

如此國產頂級光刻機技術將獲得全球半導體市場的霸主地位，並且在未來很長一段時間都不用擔心再被反超。

因為徐磊透過對博物館中極紫外線光刻機展品所涉及到的技術知識研究，要想生產出矽基晶片的物理極限1奈米晶片，需要用到一種比較特殊的金屬。

而恰巧這種金屬國內的儲量最多。

有了這個籌碼加持，海外就算把光刻機更新到頂級程度，也最多生產3奈米晶片。

至於晶片領域的另一條道路碳基晶片。

雖說同規格下碳基晶片的效能要比矽基晶片強上很多，但仍舊需要光刻機進行生產,加上材料價格以及暫時還處於實驗室階段等問題，能否實現大規模量產完全是個未知數。

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