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沐陽研究更新後的閱讀系統兩個多小時才研究透，興奮得睡不著。

喝了一杯茶，他想看看晶片製造技術的核心裝置：光刻機。

目前市場上，有兩種主流光刻機，一個是DUV光刻機，另一個是EUV光刻機。DUV是深紫外線（DeepUltravioletLithography），EUV是極深紫外線（ExtreUltravioletLithography)。

從製程範圍來看，DUV基本上只能做到25nIntel憑藉雙工作臺的模式做到了10n但是卻無法達到10n下。

只有EUV能滿足10n下的晶圓製造，並且還可以向5n3n續延伸。

這個線寬其實就是跟光的線寬有關係，比如可見光的G線，那就是436n如果用來刻蝕，線路肯定很寬。

可以簡單地認為，光刻機的光系統其實就是一支畫筆，不同的光代表不同粗細大小的筆芯，越細的筆（光）能夠畫越細越複雜的畫。

DUV就是彩筆，EUV就是中性筆，中性筆畫的線條比較細，比較好用。

這麼理解，也好理解光刻機到底如何刻蝕電路圖了。

當前，國外品牌光刻機主要以荷藍ASML，島國Nikon和Canon三大品牌為主。

EUV的價格是1—3億美金／臺，DUV的價格為2000萬—5000萬美金／臺不等。

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