2001年12月11日，滬上微電科長春實驗室將進行一次曝光系統實驗。

之前一再提到過，光刻機最核心的兩個東西是鏡頭和光源，而今天這場實驗的目的，倒不是說直接就搞定了鏡頭光源，這是不可能的，地表最強組合成立才半年，國家專案下來後的大佬加盟更是不過兩個月的時間。

即便2001年的光刻機技術攻堅要比2019年容易很多，但也不至於這麼快。今天這個實驗的目的，是為了進一步證明浸沒式光刻機的發展方向是正確的。

之前紀凱論證了浸沒式光刻機的可行性，但更多是屬於理論上的結論。

這就好比林本堅帶著理論找到尼康的時候人家並不搭理他，理論終究是理論，還是需要上升到實際運用的。

所以這次實驗的目的一是進一步證明了方向正確後，可以給大家更大的信心，浸沒式光刻機可以突破現在整個光刻機行業的瓶頸，搞定米國人和霓虹人搞不定的事情，如果這個東西真的可行，對華夏這個領域的科研人員來說意義極其重大。

而在這個基礎上，就可以更放心的投入更大的財力和精力了，特別是想要讓國家投入更多的話。

上午9點，長春實驗室內，有一臺看著明顯要比光刻機粗糙很多的東西。進一步的驗證研究方向的正確性和實際生產出一臺光刻機的最大區別就在於，不需要真的完成晶片的光刻行為，只需要能順利採集一些資料即可。

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