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新的理論、新的技術，意味著一切舊的理論和技術都要推倒重來。

原本的晶片，其原材料是以矽為主的矽基晶片。

而光刻機，並不是按字面的意思去理解，用光來雕刻。

鐳射雕刻機？

不是的。

光刻機它其實類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形透過光線的曝光印製到矽片上。

而晶片7nm、10nm指的是採用7nm、10nm製程的一種晶片。nm是單位奈米的簡稱。

比如7nm，指的是形成的互補氧化物金屬半導體場效應電晶體柵極的寬度，也被稱為柵長。

柵長最小，技術要求越高，其晶片效能也越好。

光刻機生產積體電路的大概流程，先用模版去除製作矽半導體電路所用的矽晶片的保護膜。

再將矽晶片浸泡在腐化劑中，讓失去保護膜的部分被腐蝕掉後形成電路。還要用純水洗淨殘留在晶圓表面的雜質。

這是傳統的晶片製造工藝。

現在，更小的晶片製造已不是以矽為主，而是石墨烯。

石墨烯晶片作為電流載體，其速度更快，等比縮小更優異。

現在更小更快的晶片，就是以石墨烯晶片為研究方向。

而瑪雨星帝國的低階晶片技術，就是以石墨烯為主的一種新型材料。

金石墨烯！

由此看來，地球對晶片技術的研究方向其實也是對的。從矽基晶片到石墨烯晶片。再未來，是否能到金石墨烯晶片，就不得而知了。

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