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1月15日，星期六。

合痩市。

乘坐高鐵的衛明，來到了這座城市。

為此他特意跟樊姐請了兩天假，提前處理了三十多名結石病人，合計騰出三天時間，就為了解決掉一個問題。

人才！

高階光刻機的研發人才。

而且衛明已經有了明確的招募目標，他認為的最合適最優秀的人才，就在合瘦市這邊。

此人名叫蒲偉才。

衛明是在網上查詢相關資訊的過程中，看到了多條關於此人的新聞。

也注意到此人帶領的研發團隊，取得的跟光刻機相關的多項研究成果，瞭解了此人的牛叉之處。

因為這些天衛明也在大力學習一些跟光刻機相關的知識，瞭解到了EUV光刻機的幾大核心技術。

一個，組裝。

光刻機最重要的技術之一是組裝，就是把所有的元件組裝起來，然後使解析度達到最高，同時套刻精度達到最佳。

比如機器內部溫度的變化要控制在千分之五度，得有合適的冷卻方法，精準的測溫感測器。一臺光刻機中，包含十幾個分系統，幾萬個機械件，數百個的感測器，每一個都要穩定。

二，控制。

光刻機是製造業內對精密性要求最高的產品。光刻的原理就像在米粒大小的面積上，雕刻奈米級大小的文字，對於誤差的要求可想而知。

比如光刻機裡有2個同步運動的工件臺，一個載底片，一個載膠片。兩者需始終同步，誤差在2奈米以下。兩個工作臺由靜到動，加速度跟導彈發射差不多。

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