華興集團公司六年多前就開始涉足光刻機，何玉光和席海清數位專家在楊傑的帶領下一開始是進行仿造和組裝，隨後是幾乎孤注一擲地研發浸沒式步進掃描投影光刻機，隨著華興集團公司在超精密機制造技術、光學技術上和其他方面的全面進步，瑞星科技公司在氟化氬準分子光源的浸沒式步進掃描投影光刻機上面終於是技術成熟了。

瑞星科技公司在雙工件臺浸沒式步進掃描光刻機研發過程中是申請了大量的技術專利。

這些技術專利就包括了瑞星科技公司的獨家懸浮工件臺系統，使得系統能克服摩擦係數和阻尼係數，加工速度和精度是超越機械式和氣浮式工件臺的。

瑞星科技公司雙工件臺系統做出來的時間比艾斯摩爾公司還要提前一年，兩家在這方面的技術路線很相似，這方面兩家都算是做到了世界一流。

這些年何玉光帶領著技術隊伍一點點將浸沒式光刻機大量的技術工程難題一個個的攻克了，申請了大量的技術專利，基本上將其他公司進入浸沒式光刻機的技術道路給堵死了，也培養出了一支數百人的核心技術團隊。

艾斯摩爾公司和佳能、尼康等公司看到瑞星科技公司申請了這麼多的技術專利，要想繞過去是非常困難的，這些公司也是努力地研發波長在157奈米光源的裝置。

不過艾斯摩爾推出157奈米光源的乾式光刻機最大製程工藝只能做到70奈米，而瑞星科技公司推推出的氟化氬光源光刻機極限製程工藝可以做到28奈米！

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