數天後，楊傑也是接見了來自605光刻機研究所的專家何玉光和來自803刻蝕機研究所的席海清專家以及各自帶過來的研發隊伍。

這些專家手中都掌握著一些技術專利，但是這些專利現階段來說根本無法轉化成技術產品，華興科技公司也是找到了他們，高薪將他們請了過來。

楊傑也是高興地跟兩位專家和一眾技術人員握手。

“兩位專家都是國內研發光刻機跟刻蝕機領域的頂尖人才，能加入我們公司我真是萬分高興。”

楊傑笑著道：“我準備成立一家獨立的公司，專門來研發光刻機跟刻蝕機，資金跟需要的各種裝置方面大家不用擔心，總公司這邊會全力地支援。”

“楊少，我們現在是要研發0.8微米制程工藝的光刻機跟刻蝕機嗎？”何玉光問道。

“不，公司第一步就是要儘快地對0.35微米制程裝置進行仿製。”

楊傑開口說道：“總公司這邊正在建設0.35微米制程的晶圓廠，裝置已經全部到位，我希望大家能對這些裝置就行研究，儘快地把裝置裡面的關鍵系統掌握。”

“我知道光是仿製光刻機跟刻蝕機就是一件極為困難的事情，需要在光學跟精密機械上都要達到世界最高的水準，尤其是光刻機所需零部件多達數萬個，這麼多的零部件和核心技術，如果由一家公司來獨立全部完成是不可能的，我們需要真正掌握的是光刻曝光技術的跟光源這兩項核心技術，其他的零部件可以依靠全球產業鏈分工合作的方式來從其他的供應商獲得，我們可以把自己的產品分成很多的模組，然後外包出去，讓世界最頂尖的公司為我們供應模組元件。”

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