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其實差不多半年前的時候米國那邊也是召開了光刻技術展覽會，在展覽會上米國的光刻機光源科技公司Cymer公司研製的離子束光源展示的技術成果只能是做到55瓦，雖然說光源波長比瑞星科技公司公司的波長要短，能做到22奈米，但是因為功率低，現階段來說是無法真正投入實用的。

這次瑞星科技公司卻是率先將這種鐳射光源做完全做到了實用化，也就是說在光源系統上已經領先於米國的這家Cymer公司。

這也意味著瑞星科技公司公司即將推出的新型光刻機可以將製程工藝做到10奈米以下，這對整個半導體業界來說都是一件極為重大的事情！

此時坐在臺下的爾英特集團公司的代表和艾斯摩爾公司的代表臉色都是非常難看。

瑞星科技公司公司的光源系統在華興科技集團公司以及中科院的加持下一直研發氮化鎵半導體固態鐳射光源，因為這套光源技術裡面的核心技術和材料都是國內獨有的，而且華興科技集團公司一直在玩大功率的鐳射光源，而且也是將高功率脈衝電源技術也給用了進去，前幾年就研製出了高達500千瓦的高能鐳射光源，通過幾年的測試改進，也是移植到了光刻機的光源系統上，所以在光源系統上的研發是很順利的。

華興科技集團公司從一開始就開始玩半導體鐳射，一開始從鐳射讀寫頭開始玩起，後來開始玩半導體鐳射光源波長最短的氮化鎵鐳射光源，並且利用國內在非線性光學晶體材料上的絕對技術優勢玩鐳射倍頻技術，瑞星科技公司公司自然在光刻機光源系統上能得到最好的技術成果。

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